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nikkato氧化鋁球與氧化鋯球的濕氏研磨實(shí)驗(yàn)對比

發(fā)布時(shí)間:2025-02-05 點(diǎn)擊量:11

nikkato氧化鋁球與氧化鋯球的濕氏研磨實(shí)驗(yàn)對比

研磨介質(zhì)材質(zhì)及化學(xué)組成的差異決定了研磨介質(zhì)晶體結(jié)構(gòu)的不同,繼而決定了研磨介質(zhì)不同的抗壓強(qiáng)度和耐磨性,成分含量的不同則決定了研磨介質(zhì)的密度和硬度。

研磨介質(zhì)的磨耗至關(guān)重要。一方面,研磨介質(zhì)的磨損會造成研磨介質(zhì)的損失,從而增加研磨粉碎過程中的成本;另一方面,從對粉碎產(chǎn)品的品質(zhì)考慮,研磨介質(zhì)在粉碎過程中不斷磨損,而磨損的細(xì)粉分布在產(chǎn)品之中,會造成產(chǎn)品污染。

研磨介質(zhì)的密度、硬度對研磨效率起重要作用:介質(zhì)密度越大,研磨效率愈高;硬度越高、磨耗越小,產(chǎn)品的純度越易得到保證;但是在漿料比重和粘度一定的條件下,研磨介質(zhì)的密度和硬度也并非越高越好。

日本 NIKKATO 生產(chǎn)的粉碎?分散?混合用 陶瓷球,陶瓷珠具有硬度高,韌性好,磨 耗極低,小型球罐磨設(shè)備,大型球磨設(shè)備, 振動磨,行星磨等各種粉碎設(shè)備均勻可適用。

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特點(diǎn)

■HD 材質(zhì)氧化鋁陶瓷球 HD 材質(zhì)氧化鋁陶瓷球具有耐磨性好,使用領(lǐng)域廣泛,微粉碎,分散,混合等用途適用。 

■HD-11 材質(zhì)氧化鋁陶瓷球 HD-11 材質(zhì)氧化鋁陶瓷球具有磨耗少,壽命長,高硬度材料的粉碎等用途適用。 

■HD-2 材質(zhì)氧化鋁陶瓷球 HD-2 材質(zhì)氧化鋁陶瓷球抗斷裂性優(yōu)良,主要適用于干式粉碎研磨。 

■SSA-995 高純度氧化鋁材質(zhì)陶瓷球 SSA-995 高純度氧化鋁材質(zhì)陶瓷球適用于對雜質(zhì)含量要求比較高的工業(yè)用陶瓷材料,電子類產(chǎn)品用 原材料的粉碎,分散等工藝制程。 

■SSA-999W 高純度氧化鋁材質(zhì)陶瓷球 SSA-999W 高純度氧化鋁材質(zhì)陶瓷球的純度,耐磨耗極小,使用壽命較長,磨耗產(chǎn)生的粉粒直 徑極小,氧化鋁材質(zhì)以外的雜質(zhì)的混入幾乎沒有。 

產(chǎn)要用途

?玻璃類原材料的粉碎,分散 

?水泥等的粉碎,混合 

?顏料的粉碎,分散 

?熱敏電容,誘電陶瓷體,陶瓷原材料的粉碎

?電源正負(fù)極原材料等的高純材料的粉碎 

?熒光體的粉碎 

?食品類的粉碎
YTZ 氧化鋯陶瓷球,陶瓷珠

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YTZ 氧化鋯陶瓷球具有高密度,高強(qiáng)度,高韌性等 特點(diǎn)。細(xì)晶尺寸極其微小,耐磨性,耐久性表現(xiàn)優(yōu) 秀,由氧化鋯微粉制成的優(yōu)良粉碎,分散用陶瓷球。 YTZ 氧化鋯陶瓷球匯聚了很多性能,使其具有 的高效率粉碎,分散的能力,適用于以下列舉 的各種高機(jī)能材料的粉體的粉碎,分散要求。 次微米級別的粒子徑的粉碎要求 集中度高的粒子徑分布要求 不純物含量極低的污染控制要求 球本身的優(yōu)良品質(zhì)的穩(wěn)定性要求 現(xiàn)在 YTZ 氧化鋯陶瓷球已經(jīng)做為陶瓷材料,電子元器件材料,高純電池材料,油墨,顏料等高品質(zhì),高性 能產(chǎn)品生產(chǎn)的主要使用粉碎研磨材,得到廣大用戶的好評。 

●特點(diǎn)●  

1.磨耗損失非常少,壽命長,可以大幅度降低生產(chǎn)成本 

2.粉碎效率高,處理時(shí)間短,生產(chǎn)效率高 

3.高耐磨耗,對被粉碎材料的雜質(zhì)污染極低,極大限度的減少污染 

4.真球高,表面光滑,球徑分布集中,可以實(shí)現(xiàn)高精度粉碎與分散

5.高強(qiáng)度,高韌性,外部沖擊造成的破損極少,適用于以攪拌粉碎研磨為主的各類粉碎機(jī)械 

6.對于高粘度的混合體的濕式粉碎,分散等用途更能發(fā)揮其威力 

●主要用途● 

各種材料的粉碎,分散等用途----

?誘電體陶瓷,壓電陶瓷,碰性體材料等電子元器件 

?熒光體,電池用電極材料 

?研磨微粉,CMP 用磨料等 

?油漆,顏料等  ?醫(yī)藥,農(nóng)藥,粉末食品 

?精密陶瓷材料 噴砂處理用各種媒介材料,熱處理表面噴涂粉材料等的粉碎細(xì)化等

nikkato氧化鋯球與氧化鋁球的技術(shù)數(shù)據(jù)實(shí)驗(yàn)對比

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